日本曹達と関西大学、EUVレジストの高感度化につながる下層膜材料を共同開発

日本曹達株式会社（本社：東京都千代田区／代表取締役社長：阿賀英司、以下「日本曹達」）と、学校法人関西大学（所在地：大阪府吹田市／学長：高橋智幸、以下「関西大学」）は、先端半導体の製造に用いられるEUV…

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本記事は企業・団体の発表をもとにPR HEADLINE編集部が整理したものです。数値や計画は発表時点の内容であり、変更される場合があります。